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太阳能电池片
时间:2017-09-08 作者:
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多晶硅、单晶硅清洗用水工艺流程
多晶硅、单晶硅清洗用水工艺比较

目前制备电子工业用超纯水的工艺基本上是以上三种,其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。现将他们的优缺点分别列于下面:

设备优点
  • 第一种 采用离子交换树脂

    其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏。

    但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏。

  • 第二种 采用反渗透作为预处理再配上离子交换

    其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高

    但离子再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。

  • 第三种 采用反渗透作预处理
    再配上电去离子(EDI)装置

    这是目前制取超纯水最经济,最环保用来制取超纯水的工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,对环境没什么破坏性。

    其缺点在于初投资相对以上两种方式稍贵一点。

技术要求

超纯水专用膜

采用膜表面高分子嫁接技术,产水TOC在20PPB以下,更适用电子级超纯水系统。
高TOC脱除率、高抗污染能力、低TOC溶出率,TOC达标冲洗时间短、先进配套电源技术,能耗更低。

电去离子技术

离子交换树脂再生不需要使用昂贵且有危害的化学品,降低了能源和运行费用、设施的大小要求。
采用新型均匀树脂包填充,有效提高脱盐率。

水质标准

1、ASTM-D5127-2007《美国电子学和半导体工业用超纯水标准》

2、欧盟电子级超纯水标准

3、中国电子工业国家标准

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