很多朋友对半导体超纯水设备并不是很了解,但是半导体超纯水设备在工业的运用越来越方法,例如液晶显示屏的清洗,半导体物件的清洗,线路板焊接用水等在制造过程中都要用到半导体超纯水设备,下面是小编整理的有关半导体超纯水设备的介绍。
传统的超纯水设备是电渗析、离子交换器(阳床、阴床、复床、混床)。我们生产的新型半导体超纯水设备是EDI(连续电除盐技术)设备,可以有效的去除水中几乎全部的阴阳离子,出水电阻率可稳定在15MΩ.CM以上,连续运行、无化学污染、水的利用率高,在超纯水制备工艺上有着强大的优势广阔的应用前景。
所以EDI+反渗透设备适合于工业高纯水,医用超纯水,电子反渗透纯水系统,电子工业用超纯水系统,电镀工业用超纯水系统,实验室用超纯水,食品饮料用超纯水,生物工程超纯水,制造业用超纯水。
半导体行业用超纯水设备主要应用于半导体行业用水,该设备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成,可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质,出水电阻率可以达到18兆欧以上,完全满足半导体行业用水需求。
半导体行业用超纯水设备工艺
1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
2、预处理-一级反渗透-加药装置(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)
半导体行业用超纯水设备特点
1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。
2、自动化程度高,遇故障立即自停,具有自动保护功能。
3、膜组件为复合膜卷制而成,表现出更高的溶质分离率和透过速率。
4、能耗低、水利用率高、运行成本低。
5、结构合理,占地面积少。
6、先进的膜保护系统,在设备关机,淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净,延长膜寿命。
7、系统无易损部件,无须大量维修,运行长期有效。
8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。
半导体行业用超纯水设备性能优势明显,能够连续稳定的制备品质优良的超纯水,不会因为树脂再生而停止运行,超纯水装置结构设计相对靠紧,占地面积小,可以为企业节省很多空间。
以上是关于半导体超纯水设备的介绍,相信大家在看完此文章后对半导体超纯水设备会有进一步的了解,从上面的介绍中我们可以看出半导体超纯水设备因不同的情况,工艺流程也会有所不同。
软化水设备是一种用于去除水中硬水离子(如钙和镁离子)的设备,将硬水转化为软水的工具。而软化水设备中加盐的作用主要是为了帮助再生树脂的功能,下面将详细介绍软化水设备为需要加盐的原因及作用。软化水设备中的树脂是起着去除硬水离子的作用的关键部件。树脂在长时间使用后,会逐渐饱和,无法再继续有效地去除水中的硬水离子。因此,需要进行再生操作来恢复树脂的吸附能力。而加盐正是在再生过程中发挥作用的重要因素之一。
了解详情锂电池作为现代电池技术中的关键产品,广泛应用于电动汽车、移动电子设备、储能系统等领域。锂电池行业之所以需要使用超纯水设备,主要是因为其可以确保生产工艺中所需水质的高纯度,避免杂质对产品质量的影响,提高生产效率和降低成本。
了解详情超滤膜是一种常见的膜分离设备,用于过滤和分离水中的微粒和杂质。随着时间的推移和操作的频繁,超滤膜会逐渐被污染和堵塞,导致过滤效率下降。因此,定期清洗超滤膜是非常重要的。下面介绍几种常用的超滤膜清洗方法:1. 物理清洗:常见的超滤膜清洗方法之一,可通过以水为媒介,运用高压水枪或刷子等工具对超滤膜进行冲洗和擦拭,去除膜面的污物和杂质。物理清洗可以快速有效地清洁超滤膜表面,提高膜的通透性。
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