水处理领域整体解决方案供应商
0755-61118000
13560736952

光学光电

手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求极高,带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。


技术要求

光电光学玻璃行业的超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水,镀膜玻璃镜片清洗超纯水设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+SMB除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。

标准

研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量(外观和精度)的重要工序。

研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青,少数企业的加工过程中会有漆片。

其中研磨粉的型号各异,一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。

根据镜片的材质及研磨精度不同,选择不同型号的研磨粉。

在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的,以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。

玻璃研磨过后,需要用超纯水进行产品的清洗,以获得高品质的产品。

友情链接: