半导体工艺广泛应用于集成电路、光伏发电、芯片生产等,是高科技电子发展的主力军。制造芯片的过程十分复杂,关键的步骤是沉积、光刻胶涂覆、刻蚀、离子注入和封装。而这些步骤都离不开超纯水,因为芯片生产过程需要超纯水进行清洗。半导体超纯水系统是工业水处理系统中设计施工最为复杂,材料选择最为讲究,运行控制最为精密的系统,包括了众多的子系统,功能单元及配套系统,所以半导体超纯水的制备过程可以用“千锤百炼”来形容。
半导体芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷却用水,基板晶圆片检测清洗用水,中段晶圆片溅镀、曝光、电镀、光刻、腐蚀等工艺清洗,后段检测封装清洗。
了解详情太阳能光伏产业主要生产集中在多晶硅提纯、拉单晶、多晶硅铸锭、太阳能电池片等,这些生产工艺中主要动力需求包括:超纯水,电源,特气。
了解详情光电光学玻璃行业的超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水。
了解详情液晶面板生产大约50%以上工序中硅片与超纯水直接接触,有80%以上工序需要进行化学处理,而化学处理又与超纯水有密切关系,并且直接与工件接触,如果水质不纯,就会导致器件性能下降,影响产品性能,进而影响了产品的良率。
了解详情作为电解液的重要成分,水在电池中起着至关重要的作用,一般情况下的水中含有钙镁离子,固体颗粒、胶状物质等导电物质,会缩短蓄电池的使用寿命,也不符合国家有关电池用水的标准规范,所以需要水质高的超纯水作为电池电解液。
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